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常翔学園 大阪工業大学図書館

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プラズマプロセシングの基礎

Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB99198972>
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所蔵一覧 1件～4件（全4件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 工大宮 工大5F一般図書 棚16 427.6||C 18605917 帯出可 0件
0002 工大宮 工大5F一般図書 棚16 427.6||C 19301468 帯出可 0件
0003 工大宮 工大5F一般図書 棚16 427.6||C 19505894 帯出可 0件
0004 工大宮 工大保存仮置図書 427.6||C 19600553 帯出可 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大5F一般図書 棚16
請求記号 427.6||C
資料ID 18605917
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大5F一般図書 棚16
請求記号 427.6||C
資料ID 19301468
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0003
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大5F一般図書 棚16
請求記号 427.6||C
資料ID 19505894
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0004
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大保存仮置図書
請求記号 427.6||C
資料ID 19600553
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 プラズマプロセシングの基礎 / Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳
プラズマ プロセシング ノ キソ
出版・頒布事項 東京 : 電気書院 , 1985.11
形態事項 13, 391p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4485661180
その他の標題 原タイトル:Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
注記 Glow discharge processes, c1980 の翻訳
注記 参考文献: p[357]-386
学情ID BN00319697
本文言語コード 日本語
著者標目リンク Chapman, Brian N. <AU00039323>
著者標目リンク 岡本, 幸雄||オカモト, ユキオ <AU00039324>
分類標目 電磁気学 NDC8:427.6
分類標目 科学技術 NDLC:MC241
件名標目等 プラズマ||プラズマ
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