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常翔学園 大阪工業大学図書館

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薄膜化技術

和佐清孝, 早川茂著. -- 第3版. -- 共立出版, 2002. <BB00040379>
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所蔵一覧 1件～2件（全2件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 工大宮 工大6F一般図書 棚21 549.8||W 10509008 帯出可 0件
0002 工大宮 工大6F一般図書 棚21 549.8||W 10803808 帯出可 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大6F一般図書 棚21
請求記号 549.8||W
資料ID 10509008
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 工大6F一般図書 棚21
請求記号 549.8||W
資料ID 10803808
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 薄膜化技術 / 和佐清孝, 早川茂著
ハクマクカ ギジュツ
版事項 第3版
出版・頒布事項 東京 : 共立出版 , 2002.6
形態事項 viii, 316p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4320086139
注記 折り込図1枚: 元素周期表 (蒸気圧・スパッタ率・薄膜形成法)
注記 文献: 各章末
学情ID BA57243403
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 和佐, 清孝||ワサ, キヨタカ <AU10049938>
著者標目リンク 早川, 茂||ハヤカワ, シゲル <AU10025353>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
件名標目等 薄膜||ハクマク
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