常翔学園 大阪工業大学図書館

Oxygen in silicon

volume editor, Fumio Shimura. -- Academic Press, 1994. -- (Semiconductors and semimetals ; v. 42). <BB99411712>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 工大宮 研究室 549.808||S||42 19405222 帯出可 研究室 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 工大宮
配置場所 研究室
請求記号 549.808||S||42
資料ID 19405222
禁帯出区分 帯出可
状態 研究室
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 Oxygen in silicon / volume editor, Fumio Shimura
出版・頒布事項 Boston ; Tokyo : Academic Press , c1994
形態事項 xvi, 679 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0127521429
書誌構造リンク Semiconductors and semimetals <BB99378905> v. 42//a
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA23221261
本文言語コード 英語
著者標目リンク 志村, 二三夫(1948-)||シムラ, フミオ <AU10075877>